磁痕顯示的分類(lèi)和記錄

　　5.1 磁痕的分類(lèi)和處理

　　5.1.1 磁痕顯示分為相關(guān)顯示、非相關(guān)顯示和偽顯示。

　　5.1.2 長(zhǎng)度與寬度之比大于3的缺陷磁痕，按條狀磁痕處理;長(zhǎng)度與寬度之比不大于3的磁痕，按圓形磁痕處理。

　　5.1.3 長(zhǎng)度小于0.5mm的磁痕不計(jì)。

　　5.1.4 兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線(xiàn)I-N_間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。

　　5.1.5 缺陷磁痕長(zhǎng)軸方向與工件(軸類(lèi)或管類(lèi))軸線(xiàn)或母線(xiàn)的夾角大于或等于30°時(shí)，按橫向缺陷處理，其他按縱向缺陷處理。

　　5.2 缺陷磁痕的觀(guān)察

　　5.2.1 缺陷磁痕的觀(guān)察應(yīng)在磁痕形成后立即進(jìn)行。

　　5.2.2 非熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，缺陷磁痕的評(píng)定應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行，通常工件被檢表面可見(jiàn)光照度應(yīng)大于或等于10001x;當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)采用便攜式設(shè)備檢測(cè)，由于條件所限無(wú)法滿(mǎn)足時(shí)，可見(jiàn)光照度可以適當(dāng)降低，但不得低于5001x。

　　熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，所用黑光燈在工件表面的輻照度大于或等于1000μW/cm2，黑光波長(zhǎng)應(yīng)在320nm～400nm的范圍內(nèi)，缺陷磁痕顯示的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見(jiàn)光照度應(yīng)不大于201x。檢測(cè)人員進(jìn)人暗區(qū)，至少經(jīng)過(guò)3min的暗室適應(yīng)后，才能進(jìn)行熒光磁粉檢測(cè)。觀(guān)察熒光磁粉檢測(cè)顯示時(shí)，檢測(cè)人員不準(zhǔn)戴對(duì)檢測(cè)有影響的眼鏡。

　　5.2.3 除能確認(rèn)磁痕是由于工件材料局部磁性不均或操作不當(dāng)造成的之外，其他磁痕顯示均應(yīng)作為缺陷處理。當(dāng)辨認(rèn)細(xì)小磁痕時(shí)，應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀(guān)察。

　　5.3 缺陷磁痕顯示記錄

　　缺陷磁痕的顯示記錄可采用照相、錄像和可剝性塑料薄膜等方式記錄，同時(shí)應(yīng)用草圖標(biāo)示。